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电极表征 极片电阻测试仪(Magic 系列)

HiCY极片电阻测试仪是一款基于新型多探针测量原理、采用新型探头设计并配以全闭环智能伺服控制统,实现极片整体电阻、电阻贡献分解及两面电阻一致性等特性检测的仪器。

  • 极片电阻测试仪(Magic 系列)
产品介绍

致力于解决传统方法依赖复杂理化参数、无法满足产业化实时检测需求的问题,实现极片整体电阻、电阻分布及两面涂布一致性的快速精准检测。


应用领域

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· 电极配方开发

       导电剂、正负极材料、交联剂、冷压等工艺设计的评估

· 涂层隔膜开发

       浆料配方、涂布等工艺设计的评估

· 生产稳定性监控


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新型多探针测量


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极片整体电阻测量


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多参数一站式测量


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极片A/B面电阻分解


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独家PCT专利技术


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双面涂布一致性



系统参数

设备型号

普通版

分解版

综合一体机

G2

G2A

G2R

Magic 3

Magic 3A

Magic 3R

Magic  One

测试原理

四线制两探针法

多探针法

测量功能

总体电阻

A 面电阻

X

B面电阻

X

压实密度

(输入重量)

(输入重量)

面密度

(输入重量)

(输入重量)

极片内短路

复合集流体及极片内短路

测试对象

极片、涂碳铝箔、底涂基材等

压力控制

量 程

0-35MPa

调压方式

手动

自动

手动

自动

自动
加载速率

定速

0.1-5MPa/S

定速

0.1-5MPa/S

0.1-5MPa/S

厚度量程

X

0-10mm

X

0-10mm

0-10mm

电阻量程

0.1μΩ~3.1kΩ,自动分档;

重量量程

/

0-120g

温湿度

量程0-80°C/5-95%RH

精度

±2℃、±3%RH

探头治具

TT-P-14-MR

TT-P-14-MS

TT-P-14-MY

软件功能

全自动通讯连接;一键自动调零及校准;测量次数统计;生产测量辅助判定;实时数据采集记录与预览;标准测试数据报告输出;过量程显示;测量异常检查;

设备尺寸(L*W*H,mm )

420*385*4

520*385*580

420*385*4

520*385*580

520*385*680


背景

极片电阻产品发展历程

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· 2017年3月,川源科技公司成立,发布行业首款极片电阻产品-G1系列;

· 2020年9月,发布“全闭环式伺服气动控制系统”及G2系列产品;

· 2021年4月,发布“新一代全闭环伺服电动控制系统”丰富产品系列;

· 2022年6月,发布全球首款一键式极片面密度、压实密度、厚度、电导率的G3系列产品;.

· 2022年7月,发布全球首款“多探针极片电阻测试系统Magic系列”-实现极片两面电阻分解测量;


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测试原理

· 采用可控压多探头电阻法,基于高精度位移、电压电流、压力及温湿度传感器,对极片施加可控压力,测量流经极片的电流和两端电压,并依据电阻和电导率公式,考虑极片各部分电阻组成,实现持续、精准、稳定监测极片极致条件下的电阻特性。相比于传统两探针,在四端子测量法的基础上新增测量电极,形成全新的多探针测量方案,实现极片整体电阻及极片A/B面电阻分解测试,为极片电阻评估提供新的方法。


四线制两探针整体极片电阻测试原理


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串联等效模拟电路

Rx,整体电阻

多探针极片电阻分解测试原理


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Rx、整体电限、A面电阻、B面电阻

备注:Ra为A面涂层电阻,Rb为B面涂层电阻,Rc为集流体电阻


产品特色

项目

传统四探针电阻仪

两探针极片电阻仪

新型多探针极片电阻仪

测量原理

四探针

四线制两探针

多探针

适用样品

单层材料,或上层导电底层绝缘的材料

极片

极片

适用场景

/

基本研发极片整体电阻生产稳定性

研发与失效分

极片整体电阻生产稳定性

极片双面涂布一致性

电阻分解功能

电阻率功能

需输入厚度

自带厚度测试自带厚度测试

技术应用状态

淘汰

可用,逐步被替代中

新技术,规模化应用中

综合推荐指数


应用案例

一、阳极极片电阻贡献分解:阶梯测试模式

· 阳极极片正反面电阻的贡献出现明显差异;

· 评估阳极极片在生产过程中是否存在双面涂布不一致。


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二、阴极极片电阻贡献分解:单点模式

· 分析阴极极片在不同部位(正面、反面和集流体)上的电阻贡献;

· 评估极片结构和生产工艺对电池性能的影响。


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三、极片配方开发评估

· 不同SOC下的DCR表现:实验配方(Exp)>MP配方;

· 在低SOC状态下,实验配方(Exp)表现出较低的DCR;

· 在浆料配方开发中,引入膜片电阻参数,提前对配方的物性进行分析,能提前对电芯的性能进行预测判断。


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四、涂炭基材开发评估与生产环境控制参数指导

· 精准测量极片电阻的变化,为底涂技术的开发提供数据支持;

· 生产环境控制:10%RH的湿度条件对于811体系的极片生产较为有利;

· 本检测仅适用于含底涂技术的极片,单纯底涂极片因缺乏复合结构易导致数据失真。


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